日前，中国集成电路产业链协同创新发展交流会在北京和上海两大主会场举行，会上颁发了第四届集成电路产业技术创新奖（简称“IC创新奖”）。在126家单位的159个参选项目中，最终16个项目中奖，至纯科技凭借8/12英寸晶圆槽式清洗设备研制及产业化项目，斩获“IC创新奖”成果产业化奖。

IC创新奖评选活动已成功举办四届，共有全国380余家单位的近600个优秀项目（产品、技术、合作团队或个人等）参与评选，累计颁发技术创新奖、成果产业化奖、产业链合作奖以及产业创新突出贡献奖共80余项。

此次获得“IC创新奖”成果产业化奖，彰显了行业对至纯科技持续创造的产业赋能作用和经济价值的高度认可。至纯科技历经IP自主、制造自主、供应链自主进行研发和销售制造，在江苏启东制造基地落实供应链的本地化与产业化，所生产湿法设备已经有效代表本土品牌参与到中国大陆和中国大陆以外高端清洗设备市场，努力成为参与国际竞争的中国半导体设备厂商之一。